就國內的半導體產業而言，由於製程洗滌的洗淨效果對半導體產品的良率影響相當大，因此，晶圓製造及封裝產業對製程洗滌用之超純水的水質潔淨度要求相當嚴格。因此，如何製備符合用水需求的純水或超純水，對光電和半導體產業而言，都是相當重要的一環。

估計整個中科台中園區，未來每日的用水量將達15~20 萬噸。高科技產業對水資源需求之殷切，可見一斑。就需水量而言，在水資源不易取得的現實環境下，業者所產生出來的廢水，已被視為須優先進行高比例的用水回收及再利用的對象。如何將高科技產業在生產製造過程中所產生之廢水，經適切處理後，再加以妥善回收再利用，已成為園區管理局及光電和半導體等高科 技業者所必須面對的嚴峻挑戰。另外，人們對高科技廠需達成「零排放」的環保要求也日益高漲。如何運用現有的技術或開發新的處理技術來達到最為節能且有效率的「零排放」目的，已是未來從事環境工程人員所需具備的知識和能力。

在晶圓和液晶顯示器的製造過程中，無論是蝕刻、擴散、離子植入、薄膜沉積或黃光等製程，都會使用到多種不同類型的化學品(包括金屬氧化物、酸、鹼、有機溶劑等)和各種不同種類的氣體。因此如何做好人員的教育訓練，完善化學品和氣體的管理系統，建置足夠的防護設施和監測系統，並預先針對可能的危害進行風險評估，以達到風險控管的目地，已是相關業者所需面對的嚴肅課題。